波长越来越短，逐渐逼近深紫外（DUV）区域。
这是传统光学材料色散急剧增大、像差最难控制的波段。
然而，屏幕上的干涉条纹，虽然随着波长的变化出现了些许拨动，但呈现出来的变化幅度却几乎是肉眼不可见的水平。
如果使用传统光学器件，那或许只有蔡司出手，才能做到类似的程度。
而且肯定需要一个巨大且复杂的透镜系统。
绝非三块镜片就能解决。
“太稳了…”一位长光的光学工程师忍不住低声惊叹。
栗亚波对这个结果早有预估，但真到了亲眼所见的时候，还是忍不住挂上了一抹笑容——
如果这个成果顺利投入应用，那么就连自己的院士头衔，都可以提上议事日程了。
正常情况下，一门双院士这种事，一般都是老师在哪个院，学生就在哪个院。
但他的老师同时身兼双院院士。
哎呀，到时候该怎么选呢？
真是个令人感到痛苦的抉择呢…
就在栗亚波已经忍不住想入非非的时候，何修军带着激动的声音传来：
“数据出来了！”
他恨不得把头塞进屏幕里：
“相比基准波长，系统波前的RMS值（均方根值）上升了…不到0.15！”
实际应用中，DUV光源的宽度很窄，不可能囊括从486.1nm到193nm这么宽的范围。
因此这个数值换算到光刻机上面，就已经是非常优秀的结果了。
身后的另一名工程师直接一哆嗦：
“这…这比我们之前任何一套全折射或折反式系统在这个波段的稳定性都要好得多！”
张汝宁紧抿着嘴唇，没有说话，但紧握的拳头微微松开，肩膀也耷拉下去不少。
不过，还不到可以彻底放松的时候。
电脑屏幕上，ArF波长下的干涉条纹依旧清晰可辨。
虽然比长波长时略粗了一些，但整体形态保持良好，没有灾难性的崩溃。
“提取泽尔尼克系数，重点分析离焦项Z4！”
张汝宁语速加快。
泽尔尼克系数是量化光学系统像差的标准数学工具。
其中Z4项，就代表了离焦，这正是由色散差导致的核心像差之一。
何修军熟练地操作软件，对当前的干涉图样进行高速采集和分析。
十几秒钟后，结果跳出！
“Z4值是…0.042λ。”
何修军的声音由于兴奋而显得尖锐：
“对比我们之前最成功的消色散方案，这套三透镜系统在同等焦距下的实测Z4值减少了差不多三分之一…”
减少三分之一，这很重要。
但还不是最重要的。
“而且，”张汝宁补充道，“这套系统的体积，只有传统消色散组件的不到五分之一！”
更紧凑的体积和更简单的结构，相当于给物镜组的其它部分留出了更高的自由度。
显然，他们成功了。
这不仅仅是数据的胜利。
还是为突破ASML在光刻技术上的封锁，打开了一扇充满希望的窗…
不对。
何止是开窗。
这是把房顶都给掀了…
就在众人沉浸在初步成功的喜悦中时，气密门再次滑开。
一名测试人员探进头来：“栗教授，有电话找，常院士的。”
正在跟另外几人讨论结果的栗亚波一愣，接着匆匆离开。
但仅仅几分钟后，又去而复返。
“各位！”栗亚波打断了讨论和庆祝。“常院士让我立刻通知大家，尽快去顶楼会议室集合！”
张汝宁脸上的笑容瞬间收敛，严肃起来：
“栗教授，什么事这么急？”
他看了看旁边的设备，还有电脑屏幕上的数据：“实验方面还有些收尾和重复验证…是需要所有人都过去么？”
“老师说，他找到了一种全新的理论方法！”
可能是因为之前一路跑过来的缘故，栗亚波的呼吸有些急促：
“可以替代现有体系，对偏振像差进行描述和理论解释。”
此话一出，就连正坐在电脑前分析数据的何修军都停下了手上的动作，转过头来看向栗亚波。
“替代琼斯矩阵？”
不止一个人脱口而出。
在传统光学系统的成像过程中，大多是将光看做标量处理，而忽略其矢量特性。
但在投影光刻物镜中，当数值孔径NA不断增大时，光的矢量特性对成像效果影响也会逐渐增大。
尤其对于3G浸没液和镥铝石榴石这样NA值预计会大于1.70的系统，传统标量像差理论已经不足以完全表征光学系统的成像性能。
必须使用偏振像差理论。
然而，偏振相差甚至没有一种完善的描述形式，穆勒矩阵和琼斯矩阵各自有无法适用的范围。
如果能解决这个问题，无疑是补上了超高精度成像领域的一个缺口。
张汝宁瞬间做出决断：
“先暂停手头的所有实验操作，锁定设备状态！”
“小何，注意保存好所有数据。”
“所有人，跟我上楼！”